專(zhuan)註真空泵與係(xi)統設(she)計製(zhi)造(zao)16年
額定流(liu)量:100m³/h(50Hz)
極(ji)限(xian)壓力(li)≤1x10-3mbr(abs)
電(dian)壓(ya):320-440(50Hz)
功率:0.4Kw
口逕(jing):VG5...
額(e)定流量:300m³/h(50Hz)
極限壓(ya)力(li)≤1x10-3mbr(abs)
電壓(ya):320-440(50Hz)
功率:0.75Kw
口(kou)逕(jing):VG...
額(e)定流量:500m³/h(50Hz)
極(ji)限(xian)壓(ya)力≤1x10-3mbr(abs)
電壓:320-440(50Hz)
功率:2.2Kw
口(kou)逕(jing):VG6...
額(e)定(ding)流(liu)量:1100m³/h(50Hz)
極(ji)限壓(ya)力≤1x10-3mbr(abs)
電壓(ya):320-440(50Hz)
功率(lv):3.7Kw
口(kou)逕:VG...
可(ke)應(ying)用(yong)于:蒸(zheng)髮鍍膜、磁(ci)控濺射(she)、捲(juan)繞鍍(du)膜(mo)、離子鍍膜(mo)、光(guang)學鍍膜(mo)等;單晶鑪(lu)、多晶(jing)鑪(lu)、真空熱處理(li)鑪、燒(shao)結(jie)鑪、...
可(ke)應用于(yu):蒸髮(fa)鍍(du)膜、磁控(kong)濺射、捲(juan)繞(rao)鍍(du)膜(mo)、離(li)子鍍(du)膜、光(guang)學(xue)鍍膜(mo)等(deng);單晶(jing)鑪(lu)、多(duo)晶(jing)鑪(lu)、真(zhen)空熱處(chu)理鑪、燒(shao)結鑪(lu)、...
可(ke)應(ying)用于:蒸(zheng)髮鍍膜(mo)、磁控(kong)濺射、捲(juan)繞鍍(du)膜、離子(zi)鍍膜(mo)、光(guang)學鍍膜等;單晶鑪(lu)、多晶(jing)鑪、真(zhen)空(kong)熱處(chu)理(li)鑪、燒結(jie)鑪、...
可應(ying)用(yong)于:蒸(zheng)髮(fa)鍍(du)膜、磁(ci)控(kong)濺射、捲(juan)繞鍍(du)膜(mo)、離子鍍膜、光學鍍膜(mo)等(deng);單晶(jing)鑪、多晶(jing)鑪(lu)、真空(kong)熱處(chu)理(li)鑪(lu)、燒(shao)結(jie)鑪(lu)、...